10M+ Elektronische componenten op voorraad
ISO-gecertificeerd
Garantie inbegrepen
Snelle levering
Lastige onderdelen?
Wij brengen ze in kaart.
Vraag een offerte aan

HEMT's en HEM-FETs: 2DEG-kanalen, materialen en toepassingen

лют 11 2026
Bron: DiGi-Electronics
Bladeren: 612

Transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMTs en HEM FETs) gebruiken een heterojunctie en een tweedimensionaal elektronengas (2DEG) kanaal om zeer hoge snelheid, versterking en lage ruis te bereiken in RF-, millimetergolf- en vermogenscircuits. Dit artikel legt hun laagstructuur, materialen, modi, groeimethoden, betrouwbaarheid, modellering en PCB-indeling in duidelijke stappen uit.

Figure 1. HEMTs and HEM FETs

HEMTs en HEM FETs Basisprincipes

Transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT's of HEM FET's) zijn veldeffecttransistors die een grens gebruiken tussen twee verschillende halfgeleidermaterialen in plaats van één enkel, uniform gedoteerd kanaal zoals bij een MOSFET. Deze grens, een heterojunctie genoemd, laat elektronen zeer snel bewegen in een dunne laag met lage weerstand. Hierdoor kunnen HEMT's schakelen met zeer hoge snelheden, sterke signaalversterking geven en ruis laag houden in hoogfrequente circuits. Veelgebruikte materiaalsystemen zoals GaN, GaAs en InP worden gekozen om snelheid, spanningssterkte en kosten in balans te brengen, waardoor HEMT's veel worden gebruikt in moderne hoogfrequente en hoogvermogenselektronica.

2DEG-kanaal in HEMTs en HEM FETs

Figure 2. 2DEG Channel in HEMTs and HEM FETs

Bij HEMT's komt de hoge mobiliteit van een zeer dunne laag elektronen, een zogenaamde tweedimensionale elektronengas (2DEG). Deze laag vormt zich op de grens tussen een breedbandgaplaag en een smallere bandgap-kanaal. Het kanaal is zonder dop, waardoor elektronen met minder botsingen bewegen, wat een snel, laagweerstandig pad voor stroom geeft.

Stappen bij 2DEG-vorming:

• Donoratomen in de breedbandgaplaag geven elektronen af.

• Elektronen bewegen zich in het small-bandgap kanaal met een lage energie.

• Een dunne kwantumput vormt en vangt de elektronen in een vel.

• Deze 2DEG-plaat fungeert als een snel kanaal dat door de gate wordt aangestuurd.

Laagstructuur in HEMT's en HEM FET's

Figure 3. Layer Structure in HEMTs and HEM FETs

3,1 n⁺ caplaag (lage bandkloof)

Biedt een laagweerstandspad voor de bron- en afvoercontacten. De condensator wordt onder de poort verwijderd om het kanaal gecontroleerd te houden.

3,2 n⁺ brede bandgap donor/barrièrelaag

Levert elektronen die de 2DEG vullen en helpt bij het verwerken van hoge elektrische velden.

Ongedopeerde afstandhouderlaag

Ze scheiden de donoren van de 2DEG zodat elektronen minder botsingen zien en gemakkelijker kunnen bewegen.

Ongedopte smalle bandgap kanaal/buffer

Houdt de 2DEG vast en laat stroom snel stromen bij hoge frequenties en hoge velden.

Substraat (Si, SiC, saffier, GaAs, of InP)

Ondersteunt de hele constructie en is gekozen op warmtebehandeling, kosten en materiaalmatch; GaN-on-Si en GaN-on-SiC zijn gebruikelijk in vermogens- en RF-HEMT's.

Materiaalopties voor HEMT's en HEM FET's

MateriaalsysteemBelangrijkste sterke puntenTypisch frequentiebereik
AlGaAs / GaAsWeinig ruis, stabiel en goed ontwikkeldMagnetron naar lage mmWave
InAlas / InGaAs op InPZeer hoge snelheid, zeer weinig geluidmmWave en hoger
AlGaN / GaN op SiC of SiHoge spanningssterkte, hoog vermogen, warm-readyRF, microgolf, vermogensschakeling
Si / SiGeWerkt met CMOS, betere mobiliteit dan siliciumRF en hogesnelheids digitaal

pHEMT- en mHEMT-structuren in HEMT's en HEM FET's

Figure 4. pHEMT and mHEMT Structures in HEMTs and HEM FETs

TypeRoosterbenaderingBelangrijkste voordelenTypische beperkingen/afwegingen
pHEMTGebruikt een zeer dun, gespannen kanaal dat onder een kritische dikte wordt gehouden om bij het substraat te passenHoge elektronenmobiliteit, lage defecten, stabiele prestatiesDe kanaaldikte is beperkt; opgeslagen spanning moet worden beheerd
mHEMTGebruikt een gegradueerde "metamorfische" buffer die langzaam de roosterconstanteMaakt een hoog indiumgehalte en zeer hoge snelheid (hoge fT) mogelijkComplexere buffer, hoger risico op kristaldefecten

Verbeterings- en uitputtingsmodi in HEMT's en HEM FET's

Figure 5. Enhancement and Depletion Modes in HEMTs and HEM FETs

Depletion-mode HEMT's (dHEMT, normaal aan)

• Vaak gevonden in AlGaN/GaN-structuren waar een 2DEG vanzelf ontstaat.

• Het apparaat geleidt bij VGS = 0V; Er is een negatieve poortspanning nodig om het kanaal uit te schakelen.

• Kan zeer hoge vermogensniveaus en hoge doorbraakspanning bereiken, maar vereist extra zorg om het systeem fail-veilig te maken.

Enhancement-mode HEMT's (eHEMT, normaal uitgeschakeld)

• Gebouwd zodat het kanaal uit staat bij VGS = 0V.

• Methoden omvatten gate recess, p-GaN gate of fluorine behandeling om de drempel naar een positieve waarde te verschuiven.

• Werkt meer als een MOSFET, wat het makkelijker maakt om stroom- en autocircuits te beschermen en te besturen.

RF- en millimetergolfrollen van HEMT's en HEM FET's

Figure 6. RF and Millimeter-Wave Roles of HEMTs and HEM FETs

In RF- en millimetergolfcircuits worden HEMT's en HEM FET's veel gebruikt omdat ze zeer snel kunnen schakelen en slechts een kleine hoeveelheid ruis aan het signaal toevoegen. Hun structuur geeft ze een hoge versterking en laat ze werken op frequenties waar veel siliciumapparaten moeite mee krijgen.

In deze systemen dienen HEMT's vaak als ruisarme versterkers die zwakke signalen versterken met minimale extra ruis, en als vermogensversterkers die sterkere signalen bij hoge frequenties aansturen. Geavanceerde HEMT-technologieën kunnen de nuttige versterking ver in het millimetergolfbereik houden, waardoor ze veel worden gebruikt in zeer hoogfrequente communicatie- en detectiecircuits.

GaN HEMT's en HEM FET's bij vermogensomzetting

GaN HEMT's en HEM FET's worden nu gebruikt als hoofdschakelaars in hoogefficiënte, hoogfrequente vermogensomzetters in het bereik van 100–650 V. Ze hebben veel lager schakelverlies dan veel silicium MOSFET's, dus ze kunnen rijden op honderden kilohertz of zelfs tot in het megahertzbereik en blijven toch efficiënt.

Deze apparaten bieden ook lage weerstand en lage lading, wat helpt om zowel geleidings- als schakelverliezen te verminderen. Hun sterke elektrische veld en goede temperatuurbeheersing ondersteunen kleinere magnetische elementen en compactere vermogenstrappen. Om deze voordelen veilig te behalen, moeten de gate drive, de printplaatindeling en de EMI-regeling zorgvuldig worden gepland zodat snelle spanningsranden en ringing onder controle blijven.

Epitaxiale groei voor HEMT's en HEM FET's

MBE (Moleculaire Straalepitaxie)

• Gebruikt ultrahoog vacuüm en zeer nauwkeurige groeicontrole.

• Gebruikelijk in onderzoek en in laagvolume, zeer hoogwaardige HEMT's.

MOCVD (Metaal-Organische CVD)

• Ondersteunt een hoge waferdoorvoer.

• Gebruikt voor commerciële GaN- en GaAs HEMT's, waarbij prestaties en productiekosten in balans worden gebracht.

Betrouwbaarheid en dynamisch gedrag in HEMT's en HEM FET's

Figure 7. Reliability and Dynamic Behavior in HEMTs and HEM FETs

GaN-gebaseerde HEMT's en HEM FET's kunnen betrouwbaarheidsproblemen krijgen wanneer ze schakelen op hoge spanning en hoog vermogen. Vallen in de buffer, het oppervlak of de interfaces kunnen tijdens het schakelen lading opvangen, wat de dynamische onweerstand verhoogt en de stroom afbreekt, wat leidt tot stroominstorten in vergelijking met DC-werking.

Sterke elektrische velden en hoge temperaturen nabij de poort kunnen extra stress veroorzaken. Na verloop van tijd kunnen herhaald schakelen, warmte, vochtigheid of straling waarden zoals drempelspanning en lekkage langzaam veranderen, waardoor een goed thermisch ontwerp en bescherming de stabiliteit op lange termijn ondersteunen.

Conclusie

Het gedrag van HEMT en HEM FET komt voort uit het 2DEG-kanaal, het gekozen materiaalsysteem en de pHEMT- of mHEMT-structuur, gevormd door het ontwerp van versterkings- of uitputtingsmodus. Samen met MBE- of MOCVD-groei bepalen vallen, dynamische weerstand en thermische limieten de werkelijke prestaties. Nauwkeurige RF- en stroommodellen, plus zorgvuldige keuzes voor printplaten en verpakkingen, zorgen ervoor dat de werking stabiel blijft.

Veelgestelde Vragen [FAQ]

Welke gate-drive spanning hebben GaN HEMT's nodig?

De meeste versterkingsmodus GaN HEMT's gebruiken ongeveer 0–6 V gate-aandrijving.

Hebben HEMT's speciale gatedrivers nodig?

Ja. Ze hebben snelle, laaginductantie gatedrivers nodig, vaak speciale GaN-driver IC's.

Welke pakketten zijn gebruikelijk voor HEMTs en HEM-FETs?

RF-HEMT's gebruiken RF-keramische of oppervlaktegemonteerde behuizingen. Power GaN HEMT's gebruiken QFN/DFN, LGA, laag-inductantie vermogenspakketten of sommige TO-stijl pakketten.

Hoe beïnvloedt temperatuur de prestaties van HEMT?

Hogere temperaturen verhogen de aanweerstand, verminderen de stroom, verlaagden de RF-versterking en verhoogden de lekkage.

Hoe worden HEMT's getest in stroomomzetters?

Ze worden gecontroleerd met een dubbelpulstest om schakelenergie, overshoot, ringing en RDS(on) te meten.

Welke veiligheidsmaatregelen zijn belangrijk voor hoogspannings-GaN HEMT's?

Gebruik versterkte isolatie, de juiste zekeringen of zekeringen, overspanningsbeveiliging, correcte kruip- en speling, gecontroleerde dv/dt en beschermde poortaandrijving.

Offerte Aanvragen (Verzendt morgen)